HVOF-gespritzte Isolationsschichten für Anwendungen in der Leistungselektronik
Autoren: Dr.-Ing. Jan Luth, M. Sc. Mateusz Cichosz, Dr.-Ing. SFI MBA Sven Hartmann, Dr.-Ing. Fabian Trenkle
Für Anwendungen im Bereich von Hochleistungselektronikkomponenten sind
elektrisch isolierende Schichten mit einer hohen Durchschlagfestigkeit, einem
hohen elektrischen Widerstand und einer hohen thermischen Leitfähigkeit
notwendig. In dieser Arbeit wurde das Potential von HVOF-gespritzten Schichten
für Hochleistungselektronikkomponenten anhand von 20 verschiedenen Pulvern
untersucht. Diese Pulver sind Aluminiumoxid-
Keramiken, welche Beimengungen
von Chrom-, Titan- und Magnesiumoxid
enthalten. Als wesentliches Ergebnis
dieser Arbeit ist festzustellen,
dass sowohl reines Aluminiumoxid als
auch Spinell (Al2O3-28MgO) die Anforderungen
an die elektrische Isolation
erfüllen. Damit der spezifische Durchgangswiderstand
groß genug wird, sollten
diese Isolationsschichten nachträglich
versiegelt werden und die Menge an
Verunreinigungen wie Na2O oder Fe2O3
muss geringer als 0,1% sein.
Seiten: 16 - 20
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